01材料制备
化学气相沉积系统
用于材料生长与薄膜制备，为微纳光学结构研究提供材料基础。
RESEARCH INFRASTRUCTURE
从微纳结构
到可验证的器件
依托模拟仿真、微纳加工与光电测试条件，连接材料、结构、器件与应用验证。
01 / LABORATORY
实验室与设备基础
材料制备、图形加工、结构表征与光电测试，构成协同研发的实验基础。
02光电测试
半导体分析测试系统
开展器件电学特性与光电响应测试，衔接样品制备和性能评价。
03光谱分析
傅立叶显微红外光谱仪
开展红外光谱与微区分析，辅助材料和器件的光学特性研究。
04微纳加工
聚焦离子束直写系统
用于局部微纳结构加工与样品处理，支持结构研究与工艺验证。
05薄膜沉积
磁控溅射镀膜机
开展功能薄膜沉积，衔接材料体系、器件结构与加工流程。
06图形加工与表征
带电子束直写功能的 SEM
结合电子束图形加工与微观结构观察，支持微纳图形研发。
07洁净工艺环境
超净环境
为样品制备、工艺操作与实验协同提供洁净环境。
08激光精细加工
飞秒激光切割系统
用于激光精细加工与切割，拓展样品制备和结构加工手段。
02 / METALENS
Metalens 微纳加工
围绕平面聚焦透镜、激光分束 DOE 与光谱滤波结构，开展仿真、打样、压印及多尺度表征。
平面聚焦透镜
以平面微纳结构实现聚焦与成像；资料展示光镜、SEM、样品和测试结果。
激光分束 DOE
面向 VCSEL 阵列的光束整形与分束，连接设计、样品与实测光斑。
光谱滤波结构
通过局域表面等离激元共振机制研究多通道光谱调控。